专利名 | 一种利用高密度等离子体反应刻蚀硫化锌材料的方法 |
行业分类: | 化工冶金 |
简介: | 本发明公布了一种利用高密度等离子体反应刻蚀硫化锌材料的方法,采用感应耦 合等离子( ICP )设备,利用CH4/H2/Ar气体感应耦合电离产生的活性高密度等离子体,反应刻 蚀ZnS材料,其特征在于,将带阻挡层刻蚀窗口图形的ZnS基片(或带ZnS膜层的基片)置于感 应耦合等离子设备的反应腔内,利用电离产生的高密度等离子体与ZnS材料进行反应,刻蚀 产生的可挥发性产物通过抽真空设备排出,从而将阻挡层刻蚀窗口图形转移到ZnS材料上。 本发明可以解决ZnS材料腐蚀过快、钻蚀明显、均匀性差、工艺重复性较差等问题,有效提高 器件性能及集成度。 |
专利号: | 201010051780.4 |
申请(专利权)人: | 中国空空导弹研究院 |
专利提供单位: | |
专利类型: | 发明专利 |
法律状态: | 有权 |
合作方式: | |
参考价格: |